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Films d'oxydes métalliques nanostructurés déposés par procédé plasma pour des applications énergétiques
1 : ICB-LERMPS UMR 6303, CNRS, UTBM, Université de Bourgogne Franche-Comté
Hanlin LIAO
2 : School of Materials Science and Engineering, Anhui University of Technology
| Type : | : | Oral |
| Thématiques | : | T2 - Systèmes et Procédés plasma |
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