Films d'oxydes métalliques nanostructurés déposés par procédé plasma pour des applications énergétiques
Zexin Yu  1, @  , Meimei Liu  1  , Yangzhou Ma  2  , Michel Moliere  1  , Hanlin Liao  1  
1 : ICB-LERMPS UMR 6303, CNRS, UTBM, Université de Bourgogne Franche-Comté
Hanlin LIAO
2 : School of Materials Science and Engineering, Anhui University of Technology
Type : : Oral
Thématiques : T2 - Systèmes et Procédés plasma
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